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真空炉内加熱装置

  • 成膜装置内や真空内での熱処理
  • 室温〜3000℃
  • 雰囲気、加熱面積を考慮した最適なヒータ選定(ランプ・埋め込みヒータ・セラミック・レーザ・高周波など)

レーザ加熱 (マニュピレータ付)

レーザ加熱 (マニュピレータ付)

 

赤外線ランプ加熱

赤外線ランプ加熱

 

高周波加熱 (コイル部)

高周波加熱 (コイル部)

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